鼻噴劑懸浮液高剪切分散機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。
鼻噴劑懸浮液高剪切分散機
配液分散機,鼻噴劑高速分散機,循環(huán)分散均質機,當固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。為了實現(xiàn)互不相溶相的分散,必須強力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著必須克服表面張力的阻力來形成新表面。分散過程傳遞所需的能量,并保證兩相均質混合復方混選型鼻噴劑
原輔料特性:原輔料藥粉密度低于水,在加料過程中,藥粉會漂浮在水面上,而且藥粉很容易粘壁和結塊,因此,配料罐的設計需要保證在加藥過程中藥粉不能粘壁,而且剪切和攪拌能將藥粉分散。
先向50L配液罐中加入一定處方量的純化水,然后將可溶性的輔料依次加入到配料罐中均質溶解,在均質過程中開啟真空裝置,進行抽真空,保證藥液不會氣泡。然后將不溶性的原料藥加入到配料罐中,均質,使原料藥分散均勻。(或者:先向50L濃配罐中加入一定處方量的純化水,開啟攪拌和管線式均質機,然后將不溶性輔料加入,并通過打循環(huán)分散均質,一邊加料一邊分散,使不溶性的藥粉在水中能均一的分散,保證藥液濃度的均一性。)
向100L配液罐中加入一定處方量的純化水,開啟攪拌和分散均質機,加入輔料。攪拌、均質完成后,通過真空吸料將50L配液罐中的藥液轉入到100L配液罐中,并用一定量的純化水沖洗50L配液罐后,將其轉入100L配液罐中。接著,將已配置好的防腐劑溶液緩慢加入稀配罐中,然后通過加入已配置好的鹽酸來調節(jié)藥液的PH值,并通過PH計來檢測,通過加入一定量的純化水來定容(定容前,通過真空吸料將管路中的物料吸入到100L配液罐中)。定容后的藥液經過攪拌以及在線均質后,使其藥液分散均一,在均質和攪拌過程中需要開啟真空裝置,進行抽真空,保證藥液不會氣泡。直配液完成。
100L配液罐作為儲液罐,繼續(xù)攪拌。藥液部分放入移液罐(帶攪拌),用于灌裝,如此反復,直灌裝完成。
100L配液罐攪拌形式為推進式攪拌槳,攪拌偏心式安裝,罐底出口直徑為DN20。配置高剪切分散均質機(或管路式分散均質機),均質機*高剪切速度不低于9000rpm,剪切速度變頻可調,高剪切轉速范圍0~5000rpm。分散的顆粒粒徑范圍10nm~5000nm(0.01μm~5μm),分散*大處理量70L,*小處理量:10L(或更小)。
50L配液罐攪拌形式為錨式攪拌槳,攪拌中心安裝,罐底出口直徑為DN20.。配置可拆裝式高剪切分散均質機(或管路式分散均質機),均質機高剪切速度不低于9000rpm,剪切速度變頻可調,高剪切轉速范圍0~5000rpm。分散的顆粒粒徑范圍10nm~5000nm(0.01μm~5μm),分散*大處理量35L,*小處理量:5L(或更小)。
超高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過10000 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。
影響分散乳化均質結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SID定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
超高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎上又開發(fā)出XRS2000超高速剪切分散機。其剪切速率可以超過20000 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.
超高速分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時,納米級時,體系可被認為均質。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復,*終得到穩(wěn)定的高品質產品。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
鼻噴劑懸浮液高剪切分散機